Description
Diseñados exclusivamente para satisfacer los requisitos de las pulidoras orbitales y roto-orbitales modernas. La forma de cono permite una distribución precisa de la presión. El borde especialmente cortado elimina el daño de la esponja. Q²M Eccentric Polish ha reducido la altura para eliminar el arrastre del pad. El orificio central permite un ajuste preciso y reduce la temperatura en la parte central de la esponja.
